Wet bench manuelle polypropylène
- Référence: WBM
Equipement de chimie manuel pour process en bain, réalisé en matière polypropylène pour les process chimiques, aménagement des bains et du plan de travail pour les process solvant, acide et base.
Réalisation sur mesure en fonction des wafers ou des substrats à traiter, plusieurs process disponible : cleaning, etching, stripping, lift-off, drying.
Large choix de bains de chimie d'attaque ou de rinçage pour process chimique chaud, thermostaté ou ambiant avec des matériaux quartz, pvdf, ou PP.
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L'utilisation de notre wet bench manuelle est dans le but de réaliser des process chimiques corrosifs et nocifs tout en protégeant l'opérateur des émanations et des éclaboussures.
La réalisation avec des matériaux compatibles et non dégradables permettent de garantir les process sans apport de contaminant sur les wafers ou les substrats.
Nous retrouvons notre équipement de chimie wet bench dans les secteur Hi-tech, de la recherche ou dans les industries semiconducteur, electronique, optronique ou médical.
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