Wet bench polypropylène

En savoir plus sur Wet bench polypropylène

Equipement de chimie wet bench pour process en bains 

Cette wet bench est un mini environnement contrôlé qui forme une zones propres pour votre process

ISW-Séries compact est utilisé dans les industries utilisant de la chimie liquide comme dans les domaines  électroniques, horlogères, semi-conducteur, optiques et autres industries hi-tech, centre de recherche R&D.

      Les caractéristiques standards incluent:

• L'unité est construite à partir de matière polypropylène blanche, ensemble soudées par soudure thermique et testé.
• La conception de la wet bench est prévue pour les travaux de chimie humide dans les salles à environnement contrôlé ou salle propre.
•  A hauteur d'homme, se situe le compartiment des instrumentations de dialogue homme machine, la conception de ce compartiment permet toute instrumentation associée aux process lié aux bains de chimies.
• Ce compartiment permet d'accéder à deux (2) chemins étanches arrière pour le routage des lignes, des fils et des câbles qui peuvent être nécessaires entre l'instrumentation et les bains de chimie.
• L'avant du compartiment électrique comprend des panneaux amovibles modulaires pour un accès facile aux composants.
• Le plan de travail est fabriqué à partir d'un matériau d'une épaisseur de 12 mm et est segmenté pour un accès facile. La partie avant la plus en avant est fortement perforée pour permettre le passage de l'air pour la protection de l'opérateur.
• Au-dessous du plan de travail, un système de confinement secondaire s'étend sur toute la longueur de la station, ce plénum peut contenir les déversements qui peuvent se produire et les acheminent vers un drain commun. Le confinement est également utilisé pour collecter les drains des bacs de rinçage et des puits ou autres douchettes de rinçage.
• La structure de la wet bench est réalisée par une super structure autoportante, elle est prévue pour supporter les bains de process ainsi que les émanations volatiles grâce aux conduits d'extraction présent sur l'ensemble de l'équipement, avec une lèvre avant permettant d'améliorer la vitesse de passage en partie frontale.
• L'unité intègre un rebord de 25 mm à l'avant et sur les côtés pour éviter que les déversements ne s'échappent.
• Juste au-dessous de la face avant, un panneau encastré qui est destiné au montage de vannes à distance, ce local est relié au plénum prévu pour collecter les éventuels fuites des vannes.
• La cloison arrière de la station couvre le plénum principal et contient des fentes pour canaliser l'extraction uniformément.

En partie inférieure de la wet bench se trouve un espace de stockage, cet espace de stockage est accessible via les portes coulissantes à l'avant et les panneaux amovibles intérieurs à l'arrière.

• Toutes les connexions de services requises se trouvent à l'arrière de l'unité, mais peuvent être placées ailleurs sur demande.
• Une connexion de drain femelle de 1½ pouce est fournie hors du confinement secondaire.

• Le design ouvert permet d'utiliser l'éclairage de la pièce, mais il peut y avoir une lumière si nécessaire.

• La connexion électrique est basée sur les exigences de tension Européen.
• La taille de l'unité est de 867 mm de profondeur et 1658 mm de haut et est disponible dans différentes largeurs.

Choisissez avec ou sans flux laminaire Hepa H14 intégré 

Choisissez avec ou sans bac quartz chauffant de 25°c à 180°c +/-2°c le bac est vendu avec un drain relié à l'évacuation de l'équipement, vendu avec son unité de régulation, les sécurités nécessaire au bon fonctionnement du bain.

Choisissez votre bac de rinçage EDI de type QDR, cycle de spray et de débordement géré en automatique réglage sur programmateur prévu à cet effet réseau et liaison fluide en PFA.